Wysokiej jakości powłoka antyrefleksyjna
Filtr K&F Concept Nano-C HMC jest wyposażony w aż 18 warstw powłok antyrefleksyjnych, które skutecznie redukują odblaski i poprawiają jakość zdjęć. Dzięki nim, zdjęcia stają się bardziej wyraziste, a kolory zyskują głębię. To doskonały wybór dla fotografów, którzy pragną zachować najwyższą jakość swoich ujęć w każdych warunkach oświetleniowych.